CF₄氣體是一種比較常見的含氟氣體，在高頻電場的作用下輝光放電產生9I在线看片成人免费體，四氟化碳經電子撞擊離化後，主要由碳氟正離子(CF3⁺、CF2⁺、CF⁺、F⁺、C⁺等)以及電子(e⁻)組成，此外，氟9I在线看片成人免费體中還存在未被離化的具有較高活性的碳氟自由基。

一方麵CF₄9I在线看片成人免费體常被用來實現材料表麵的氟化改性，9I在线看片成人免费體氟化技術是一種利用處於9I在线看片成人免费態的氟或氟化合物來高效改變材料表麵的性質，此技術能夠用於生成具有特定功能的納米級材料。另一方麵，CF₄氣體是一種主要用於製造半導體器件以及各種集成電路的9I在线看片成人免费刻蝕工藝的含氟氣體，用於刻蝕矽基材料。

刻蝕矽基材料

氫氟9I在线看片成人免费體刻蝕氮化矽薄膜

高純CF₄廣泛用於Si、SiO₂、Si₃N₄和磷矽玻璃等刻蝕，是目前芯片製造中用量最大的9I在线看片成人免费刻蝕氣體。CF4在9I在线看片成人免费體活性氛圍中被激發產生的活性氟離子或原子基團，與待加工矽基材料發生化學反應生成具有強揮發性的氣態生成物SiF₄，從而實現材料的刻蝕去除。其化學反應方程式如下:SiO₂+CF₄→SiF₄↑+CO₂↑。

表麵氟化-使用CF4增加疏水性

氟原子摻入聚合物表麵

與其他通過引入含氧官能團來增強表麵親水性的9I在线看片成人免费體氣體不同，CF₄等含氟氣體常被用於聚合物材料的疏水處理。該方法是利用9I在线看片成人免费體技術產生的含F自由基在9I在线看片成人免费體氟化過程中吸附在碳源材料上，形成不同類型的C-F鍵，從而生成氟化碳材料。氟是一種低表麵能材料，因此CF₄9I在线看片成人免费體改性通過引入大量含氟基團，從而降低材料整體的極性和表麵能，同時提高材料表麵疏水性，使得表麵接觸角增大。

聚合物9I在线看片成人免费疏水處理效果