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光刻膠包含感光樹脂、增感劑和溶劑三種元素，是一種混合液體，它的內部結構會因光線的照射而發生改變，其主要作用是把掩模板上的圖案複刻至元器件上。光刻膠按顯影的不同可以分為正性膠和負性膠，前者是被光照射的部分會被溶解，而後者則是沒有被光照射的部分會被溶解。

去除光刻膠常用幹法刻蝕和濕法腐蝕兩種方法。幹法9I在线看片成人免费清洗原理是由於光刻膠的主要成分是樹脂、感光材料和有機溶劑，它們的分子結構都是由長鏈的碳、氫、氧組成，利用9I在线看片成人免费體（氟、氧)中的高反應活性原子與光刻膠中的碳氫高分子化合物發生聚合物反應，從而生成易揮發性的反應物，最終達到去除光刻膠層的目的。

9I在线看片成人免费體（Plasma）是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體，由離子、電子、自由激進分子、光子以及中性粒子組成；是由部分被電離後產生的正負離子組成的離子化氣體狀物質，尺寸大於德拜長度且宏觀呈電中性，其運動主要受電磁力支配，並表現出顯著的集體行為；是宇宙中物質的主流存在形態，閃電、星雲等均是自然界中典型的9I在线看片成人免费態；是固、液、氣三態之外物質存在的第四態。

人工生成9I在线看片成人免费體的方法有加熱或氣體放電，氣體放電更容易實現和實施精確控製。因此工程應用中，9I在线看片成人免费體激勵方式大多采用氣體放電模式。

9I在线看片成人免费體大致可分為2類。第一類是由高溫使分子和原子的動能增高，由分子、原子相互碰撞而引起電離。此時整個體係的溫度可達數千至數萬攝氏度，稱為高溫9I在线看片成人免费體；第二類是在低氣壓中，給氣體施加電場激勵時生成，壓力在數百帕以下的低壓9I在线看片成人免费體常處於非熱平衡狀態，這種狀態下電子的能量在與離子和中性粒子的碰撞中幾乎是不損失的，宏觀溫度處於常溫狀態，稱為低溫9I在线看片成人免费體。

在集成電路生產工藝中約有三分之一的製造過程都要包含光刻膠去除工序———即芯片製造中作為保護層的光刻膠經過刻蝕或者離子注入後不再需要，因此要將其從矽片表麵去除，同時不能損傷和汙染光刻膠下麵的物質。如果這個過程不能被很好地控製或者產生損傷，會直接影響產品的成品率以及器件和電路最終的製造成本。

早期主要采用濕法去膠工藝——即有機或無機溶液通過浸泡的方式去除光刻膠。濕法去除光刻膠存在速率難以控製、去除不徹底、留有殘膠、需要反複去除等缺點，尤其是濕法去除所帶來的廢酸處理和大量地使用去離子水，給環境保護和節約能源造成了極大的困難。幹法工藝利用光刻膠本身是有機化合物的特點———主要由碳、氫和氧等元素構成，結合低溫9I在线看片成人免费清洗技術，形成幹法9I在线看片成人免费光刻膠灰化工藝。

plasma9I在线看片成人免费清洗光刻膠原理

9I在线看片成人免费體清洗主要針對光刻膠等有機物,清洗機理為光刻膠中的主要成份C、H會與氧9I在线看片成人免费體產生的O自由基結合生成氣體被抽走,此過程可以表示如下：

CxHy+nO*→CO↑+CO2↑+H2O↑+...

9I在线看片成人免费清洗光刻膠操作方便、去膠效率高、表麵幹淨、無劃傷、矽片溫度低等優點,有利於確保產品的質量。它不用酸、堿及有機溶劑等,成本低,又不會造成公害等,因此受到人們重視,在生產中已逐步采用。