Nov. 17, 2025
通常用Ar、O2和N2等9I在线看片成人免费體來清洗或活化晶圓表麵。Ar是惰性氣體,其主要依靠濺射作用清洗晶圓並與需要活化的晶圓表麵之間不存在氧化反應,但是Ar選擇性差而且容易對晶圓表麵產生嚴重的刻蝕。N2的作用和O2類似,活化過程中會與晶圓表麵發生物理化學反應,達到表麵清洗及活化的目的。一般情況下,N2的粒子相比O2偏輕,主要用於和其它氣體結合來處理一些特殊材料,因而相比之下,氧9I在线看片成人免费體活化具有刻蝕效果顯著、易於調控等優點。
氧9I在线看片成人免费活化設備的工藝過程如圖1所示。首先為機器設置好相應的活化參數,將晶圓放入活化腔室中,機器抽真空至30mTorr以下並通入活化氣體氧氣,開啟射頻電源後就會產生9I在线看片成人免费體,通過觀測窗口可觀察到明顯的輝光。當達到設定時間後,活化完成,抽真空排除殘餘氣體,充入氮氣平衡腔室內外壓力,取出晶圓。

圖1 9I在线看片成人免费體活化晶圓流程
為了更清楚的了解9I在线看片成人免费體活化的效果,通過對晶圓表麵接觸角和粗糙度的測試來評估評估活化效果。一般情況下,未活化的晶圓表麵進行接觸角測試時,由於表麵呈疏水性,是9I在线看片成人免费體活化後的5~10倍。不同的活化參數使得晶圓表麵接觸角變化明顯,而親水性晶圓表麵的接觸角又稱為親水角,代表著經過9I在线看片成人免费體活化後晶圓表麵親水基團的數量,活化效果越好,接觸角也就越小。
(1) 9I在线看片成人免费活化功率對晶圓表麵接觸角和粗糙度的影響
首先分析了9I在线看片成人免费活化功率對晶圓表麵的影響,表1為9I在线看片成人免费體活化功率為50W、150W、250W晶圓的親水角和粗糙度。圖1給出了對應的接觸角測試圖。可見,未活化時,晶圓的接觸角為51.1°,當經過9I在线看片成人免费活化後,接觸角迅速降低,說明9I在线看片成人免费活化可以顯著改善表麵狀態。活化功率為50W時,氧9I在线看片成人免费體具有較弱的物理轟擊能力,它無法去除矽晶圓表麵較小的顆粒汙染物,並且由於活化強度不夠,因而懸掛鍵與吸附的羥基較少,導致表麵能較低。當活化功率為150W時,接觸角最小,說明活化功率增大,表麵吸附的羥基增多,脫水縮合正向反應增強,相比於50W的活化功率,活化更加充分,親水基更多。當活化功率為250W時,接觸角相比150W時無明顯變化,說明在同樣的氣體流量下,150W的活化功率基本使表麵吸附的羥基達到飽和,繼續增加刻蝕功率,對接觸角的影響不大。

表1 不同9I在线看片成人免费活化時間下晶圓表麵的親水角和粗糙度

圖1 不同9I在线看片成人免费活化功率下晶圓表麵的接觸角(a)50W(b) 150W(c)250W
圖2為不同9I在线看片成人免费活化功率下晶圓表麵的粗糙度。晶圓未活化時,表麵粗糙度Ra最好,為0.274nm;50W活化120s後,表麵粗糙度Ra增加至0.301nm,且表麵有明顯高峰值起伏,最大粗糙度Rmax為5.87nm;當活化功率增加至150W時,表麵粗糙度開始降低,此時Ra為0.279nm,在整個測試區域峰值相對平滑,此時的峰值粗糙度也降低,Rmax為4.1nm;當活化功率為250W時,表麵粗糙度反而上升,此時Ra為0.337nm,相比於150W活化功率,其峰值粗糙度有所增加,Rmax為4.86nm。

圖2 不同9I在线看片成人免费活化功率下晶圓的表麵形貌(a)未活化(b) 50W(c) 150W(d)250W
(2)9I在线看片成人免费活化時間對晶圓表麵接觸角和粗糙度的影響
9I在线看片成人免费活化時間對晶圓表麵也有顯著影響,圖3為不同活化時間下晶圓表麵的接觸角。可見,活化時間為30s時,接觸角為6.93°,此時活化時間較短,氧9I在线看片成人免费體活化不充分,產生的懸掛鍵較少,表麵能較低,進而表麵吸附的羥基較少,所以親水角較大;當活化時間為60s時,接觸角為3.33°,說明隨著活化時間的增加,反應正向進行,表麵形成的懸掛鍵數量增多,可以吸附更多的水分子;當活化時間為90s時,接觸角為2.61°,說明矽片表麵完全活化,晶圓表麵富含羥基基團;當活化時間繼續增加至120s時,接觸角變為4.18°,接觸角的增加可能是由表麵形貌的變化引起,將會在接下來的表麵粗糙度分析中討論;當活化時間增加至180s時,接觸角又迅速降低。可見,隨著活化時間的增加,晶圓表麵的活化反應越充分,接觸角越小,親水性越好。

圖3 (a)未活化、(b)30s、(c)60s、(d)90s、(e)120s、(f)180s活化時間下的接觸角
圖4為不同活化時間下晶圓表麵粗糙度的變化情況。由圖4可知,當活化時間為30s時,表麵粗糙度Ra為0.353nm,表麵微觀起伏不明顯,最大粗糙度Rmax為3.5nm。當氧9I在线看片成人免费體活化時間增加至60s時,盡管表麵粗糙度Ra無明顯變化,但晶圓表麵出現規律的微觀起伏,最大粗糙度Rmax增加至7.5nm,這可能是由於長時間的粒子轟擊引起晶圓表麵的損傷;當活化時間進一步增加至90s時,部分波峰合並,粗糙度Ra降低至0.329nm,Rmax為3.24nm;當活化時間為120s時,表麵又恢複至比較平滑的狀態,此時的表麵粗糙度Ra為0.279nm,Rmax為4.1nm,這是因為粒子轟擊時,波峰暴露的麵積較大,因此刻蝕速率較快,長時間的刻蝕會導致波峰的合並甚至消失,表麵狀態變好;當9I在线看片成人免费體活化時間增加到180s時,表麵又會出現規律的微觀起伏,導致表麵粗糙度增加。此外,這種規律的微觀起伏更容易存貯水分子,使接觸角變小。

圖4 (a)未活化、(b)30s、(c)60s、(d)90s、(e)120s、(f)180s活化時間下的粗糙度模型
Jan. 10, 2026
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