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9I在线看片成人免费體刻蝕，在幹法刻蝕中最常見的一種形式就是將掩膜圖形完整地複製到矽片表麵，涵蓋的範圍包括前段柵極大小的控製，還包括後端金屬鋁的刻蝕等。其原理是將高頻電場施加到反應氣體上，使得反應氣體產生電離並形成9I在线看片成人免费體，電離氣體通過電場被加速，從而加速離子撞擊固體表麵發生各種過程，如離子濺射、沉積和離子注入等，大量處於激發態的活性基和中性原子團會與被刻蝕材料表麵產生化學反應，因此來達到刻蝕的目的。就當前的刻蝕工藝來說,射頻容性耦合9I在线看片成人免费體主要用於介質材料的刻蝕,而感性耦合9I在线看片成人免费體(Inductively Coupled Plasma,ICP)則主要用於刻蝕金屬和半導體Si。

在薄膜沉積方麵,主要采用物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)技術作為低氣壓(幾mTorr)薄膜沉積中的主要工藝,其中,金屬薄膜主要采用直流磁控濺射技術來製備,而射頻磁控濺射技術則通用於製備介質、氧化物薄膜,然而其一直存在著濺射速率較低的問題。作為工作在相對較高氣壓(幾百mTorr)的薄膜沉積技術,9I在线看片成人免费體增強化學氣相沉積(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)廣泛應用於太陽能電池矽或氧化矽薄膜的製備。

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